WINETCH CCP等离子刻蚀机

CCP等离子刻蚀机WINETCH是面向科研及企业研发客户使用需求设计的高性价比CCP等离子体系统。作为一个多功能系统，它通过优化的系统设计与灵活的配置方案，获得高性能CCP刻蚀工艺。该设备结构紧凑占地面积小，业的机械设计与优化的自动化操作软件使该设备操作简便、安全，且工艺稳定重复性佳。

沛沅仪器是一家集等离子体技术设计、制造、产品开发、销售与服务于一体的技术型企业，公司致力于提供专业的等离子表面处理系统，向用户提供国内领先的等离子表面处理设备和优质专业的服务。 公司技术团队67%以上具备硕士或硕士以上学位，公司由长期从事等离子体应用技术研究开发、多次参与国家重大科学工程研究的专家和产业化专家联合创建，提供一系列等离子体表面处理系统、等离子体刻蚀系统、常压等离子清洗设备等，并与中科院上海应用物理研究所，复旦大学，中国科技大学，上海科技大学，上海交通大学等建立了密切的技术合作交流关系。 公司的愿景是成为全球等离子体应用领域的优质供应企业，用科研的沉淀和应用的创新，为中国的制造业崛起和全球化战略贡献一份力量。

CCP等离子刻蚀机WINETCH刻蚀系统通过电容耦合（CCP）方式产生高密度等离子体，按掩膜（例如光刻胶掩膜）图形、实现对介质材料（例如氧化硅SiO2、氮化硅SiNx等）的选择性刻蚀。

CCP系统主要由以下几部分组成：反应腔室、下电 、喷淋头（上电）、射频电源、真空系统、预真空室、气路系统、控制系统与软件、配套附件等。

CCP等离子刻蚀机产品特点：

-刻蚀形貌好、工艺性能优越

-高选择比、高刻蚀速率

-低拥有成本和消耗成本


CCP等离子刻蚀机技术参数：

晶圆尺寸：6/8寸兼容

适用工艺：等离子体刻蚀

适用材料：SiO₂，Si₃N₄，etc.
适用域:化合物半导体、MEMS、功率器件、科研等域

本页产品地址：http://www.geilan.com/sell/show-9522052.html