WINETCH ICP等离子刻蚀机

ICP等离子刻蚀机WINETCH是面向科研及企业研发客户使用需求设计的高性价比ICP等离子体系统。作为一个多功能系统，它通过优化的系统设计与灵活的配置方案，获得高性能ICP刻蚀工艺。该设备结构紧凑占地面积小，专业的机械设计与优化的自动化操作软件使该设备操作简便、安全，且工艺稳定重复性很好。

沛沅仪器是一家集等离子体技术设计、制造、产品开发、销售与服务于一体的技术型企业，公司致力于提供专业的等离子表面处理系统，向用户提供国内领先的等离子表面处理设备和优质专业的服务。 公司技术团队67%以上具备硕士或硕士以上学位，公司由长期从事等离子体应用技术研究开发、多次参与国家重大科学工程研究的专家和产业化专家联合创建，提供一系列等离子体表面处理系统、等离子体刻蚀系统、常压等离子清洗设备等，并与中科院上海应用物理研究所，复旦大学，中国科技大学，上海科技大学，上海交通大学等建立了密切的技术合作交流关系。 公司的愿景是成为全球等离子体应用领域的优质供应企业，用科研的沉淀和应用的创新，为中国的制造业崛起和全球化战略贡献一份力量。

ICP等离子刻蚀机WINETCH是面向科研及企业研发客户使用需求设计的高性价比ICP等离子体系统。作为一个多功能系统，它通过优化的系统设计与灵活的配置方案，获得高性能ICP刻蚀工艺。该设备结构紧凑占地面积小，专业的机械设计与优化的自动化操作软件使该设备操作简便、安全，且工艺稳定重复性很好。

ICP等离子刻蚀机产品特点：

● 4/6/8英寸兼容，单片晶圆真空传输系统

● 低成本高可靠，适合研发及小规模生产

● 设备结构简单，外形小

● 操作简便、便于自动控制、适合大面积基片刻蚀

● 优异的刻蚀均匀性，刻蚀速率快

●满足半导体标准的配方驱动及管理软件控制系统

● 选择比高、各向异性高、刻蚀损伤小

● 断面轮廓可控性高，刻蚀表面平整光滑

ICP等离子刻蚀机技术参数：

晶圆尺寸：4/6/8英寸兼容

适用工艺：等离子体刻蚀

适用材料：SiC、Si、GaN、GaAs、InP、Ploy，etc.

适用领域：化合物半导体，MEMS、功率器件、科研等领域

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