吉兆源 远程等离子体源（RPS）

是一种用于产生等离子体的装置，通常被用于在真空环境中进行表面处理、材料改性、薄膜沉积等工艺，以及半导体刻蚀和薄膜设备的预处理反应和清洗等。与传统等离子体源不同的是，RPS通常不直接接触要处理的表面，而是在一定距离之外产生等离子体，并将等离子体输送到目标表面，因此被称为“远程等离子体源（RPS）”。

吉兆源科技有限公司是一家致力于射频技术领域生产和研发的高科技技术企业。 公司主要研发和生产射频电源、射频自动匹配器及溅射用直流电源。 吉兆源与国外知名射频企业保持着深层次的技术交流，真正了解国外射频技术核心，吉兆源采取灵活的合作模式，国内外工程师平均设计经验年限都大于15年，已经形成有别于其他国内射频电源公司的差异化竞争优势。并在延续、吸收国外设计理念、技术的基础上研发出了国内自己的射频产品，使公司成为国内真正搞自主研发并成功为国内客户替换掉了多款国外射频产品的高新技术企业，并为国内生产的高端设备射频电源的国产化提供了可靠的国内方案。 公司产品设计理念起步于国外半导体领域，立足于国内工业生产应用，成功迎合本土化需求，多年参与半导体设备射频电源设计、调试和服务。具有丰富的半导体设备服务能力，也以此保证了公司产品的顶端优势。

是一种用于产生等离子体的装置，通常被用于在真空环境中进行表面处理、材料改性、薄膜沉积等工艺，以及半导体刻蚀和薄膜设备的预处理反应和清洗等。与传统等离子体源不同的是，RPS通常不直接接触要处理的表面，而是在一定距离之外产生等离子体，并将等离子体输送到目标表面，因此被称为“远程等离子体源RPS”。

远程等离子体源RPS应用特征

远程等离子体源RPS采用新的固态微波源技术【非磁控管微波源】。具有很高的频率、功率稳定性，使用寿命长。

自主开发的微波匹配器，能实现在不同气体条件下，快速进行微波源与等离子体的阻抗匹配。

等离子体发生器材质可选，适用于多种气体。

远程等离子体源RPS产品体积小、集成度高、便于更换。低颗粒污染;

独特的等离子反应腔设计，适用于多种气体的电离与阻抗匹配。

系统运行时，气体压力适应范围宽。气体电离率高、电离速度快。

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