NIE-3000离子源清洗系统

NIE-3000离子源清洗系统产品概述：该系统为手动放片取片，但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。

那诺-马斯特中国有限公司成立于2015年4月，是服务大中华区(包含中国大陆，香港，台湾和澳门)的客户，同时我们在中国大陆设有专门的服务办公室，提供销售和售后技术服务。 那诺-马斯特中国的主要产品包括薄膜沉积设备、薄膜生长设备、干法刻蚀设备、兆声湿法清洗设备及太空模拟测试设备等等。Nano-Master的前身是那诺-马斯特美国，该公司是法国那诺-马斯特有限公司于1992年在美国所创立的全资子公司，是一家的缺陷检测和高速镀层测量的计量公司。自从1993年开始Birol Kuyel博士全面接管那诺-马斯特美国并正式名。 自2001年Nano-Master开始设计开发薄膜应用方面的设备，正式面世的系统依次是磁控溅射、PECVD、晶圆/掩模版清洗系统…。应用领域涵盖了半导体、MEMS、光电子学、纳米技术和光伏等。我们的设备包含用于二氧化硅、氮化硅、类金刚石和CNT沉积的PECVD，用于InGaN、AlGaN生长的PA-MOCVD，溅射镀膜(反应溅、共溅 、组合溅)，热蒸发和电子束蒸发，离子束刻蚀和反应离子刻蚀，原子层沉积，兆声清洗以及光刻胶剥离等。三十年左右的时间内Nano-Master已经发展成为全球薄膜设备的供应商，已售出的几百套设备分布于20多个不同国家的大学、研发中心和国家重点实验室。 我们聘用技术熟练并具有良好教育背景的设计和制造工程师、应用工程师、服务工程师、技术支持人员，使得公司拥有的服务团队。作为薄膜工艺的设备提供商，我们的目标是提供高品质的服务并始终维持高水平的集成度。

NIE-3000离子源清洗系统产品概述：该系统为手动放片取片，但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。

NIE-3000离子源清洗系统产品特点：

• 低成本

• 离子束：高达2KV/10mA

• 离子电流密度100-360uA/cm2

• 离子束直径：4",5",6"

• 兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)

• 极限真空5x10-7Torr

• 260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵

• 14"不锈钢或铝质腔体

• 水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)

• 自动上下载片（NIE-3500）

• 基于LabView软件的PC计算机全自动控制

• 占地面积30"x30"

NIE-3000离子源清洗系统产品应用：

• 表面处理

• 离子铣

• 表面清洗

• 带活性气体的离子束刻蚀：  光栅刻蚀，以及SiO2，Si和金属的深槽刻蚀

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