NPC-3500（A）全自动plasma等离子清洗机

NPC-3500（A）全自动plasma等离子清洗机概述：NANO-MASTER 等离子刻蚀和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有*的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持

那诺-马斯特中国有限公司成立于2015年4月，是服务大中华区(包含中国大陆，香港，台湾和澳门)的客户，同时我们在中国大陆设有专门的服务办公室，提供销售和售后技术服务。 那诺-马斯特中国的主要产品包括薄膜沉积设备、薄膜生长设备、干法刻蚀设备、兆声湿法清洗设备及太空模拟测试设备等等。Nano-Master的前身是那诺-马斯特美国，该公司是法国那诺-马斯特有限公司于1992年在美国所创立的全资子公司，是一家的缺陷检测和高速镀层测量的计量公司。自从1993年开始Birol Kuyel博士全面接管那诺-马斯特美国并正式名。 自2001年Nano-Master开始设计开发薄膜应用方面的设备，正式面世的系统依次是磁控溅射、PECVD、晶圆/掩模版清洗系统…。应用领域涵盖了半导体、MEMS、光电子学、纳米技术和光伏等。我们的设备包含用于二氧化硅、氮化硅、类金刚石和CNT沉积的PECVD，用于InGaN、AlGaN生长的PA-MOCVD，溅射镀膜(反应溅、共溅 、组合溅)，热蒸发和电子束蒸发，离子束刻蚀和反应离子刻蚀，原子层沉积，兆声清洗以及光刻胶剥离等。三十年左右的时间内Nano-Master已经发展成为全球薄膜设备的供应商，已售出的几百套设备分布于20多个不同国家的大学、研发中心和国家重点实验室。 我们聘用技术熟练并具有良好教育背景的设计和制造工程师、应用工程师、服务工程师、技术支持人员，使得公司拥有的服务团队。作为薄膜工艺的设备提供商，我们的目标是提供高品质的服务并始终维持高水平的集成度。

NPC-3500（A）全自动plasma等离子清洗机概述：NANO-MASTER 等离子刻蚀和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有*的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。

NPC-3500（A）全自动plasma等离子清洗机产品特点：

• 紧凑型立式系统

• 自动上下载片

• 带Load Lock

• 不锈钢、铝制腔体或钟罩式耐热玻璃腔

• 兼容100级超净间使用

• 淋浴头、ICP或微波等离子源

• 旋转样品台

• RF偏压可PID控制加热到300 °C或冷却的样品台

• 全自动或手动RF调谐

• z多可支持5个MFC带电抛光的气体管路

• PC计算机控制的气动阀

• 带密码保护的多级访问控制

• 基于LabView软件的PC计算机全自动控制

• 机械泵的压力可达到10mTorr

• 250 l/s的涡轮分子泵

• 极限真空为5x10-7Torr

• 完整的安全联锁

NPC-3500（A）全自动plasma等离子清洗机应用：

• 有机物以及无机物的残留物去除

• 光刻胶剥离或灰化

• 去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用

• 清洗微电子元件，电路板上的钻孔或铜线框架

• 提高黏附性，消除键合问题

• 塑料的表面改型：O2处理以改进涂覆性能

• 产生亲水或疏水表面

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