Microchem SU-8 2000/3000系列 光刻胶

苏州汶颢微流控技术股份有限公司是一家留学人员回国创业的高新科技企业，集研发、生产、销售为一体，技术力量雄厚，生产设备先进，检测手段齐全，产品质量过硬。公司建立了完备的微流控芯片研发与生产中心，配置了三条微流控芯片生产 线，包括数控CNC微加工仪器，软刻蚀有机芯片加工系统，光刻-掩模无机芯片加工系统，可以加工生产所有材质的芯片，如玻璃、石英、硅、PDMS和PMMA等。产品涵盖集成式通用医疗诊断芯片、集成式通用环境保护分析监测芯片、集成式通用食品安全分析检测芯片和基于微流控芯片的新能源体系四大系列数十个品种，以及各类科研类芯片，并在生物芯片和化学芯片领域一直保持技术和研发的领先地位，申请国家专利89项，其中授权20余项，已经获批注册商标2件，软件著作权7件，江苏省高新技术产品3项，建立企业标准5项。

苏州汶颢微流控技术股份有限公司提供的产品和服务按市场可分为科研类芯片、仪器标配芯片、应用类芯片及系统和芯片实验室解决方案。科研类芯片服务于基于微流控芯片的科研工作者，提供包括聚二甲基硅氧烷（PDMS）、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）、玻璃及硅基等各种不同材质的微流控芯片的设计与制备，用户只需配置必要的辅助设备即可使用；仪器标配芯片是针对国内市场上微流控芯片仪器开发的标准芯片，为微流控芯片仪器的核心组件，属耗材类产品，如毛细管电泳芯片；应用类芯片及系统是利用微流控芯片的技术优势开发的分析检测装置，应用于环保、食品安全、药物筛选等领域；芯片实验室解决方案为客户提供完整的一对一的微流控芯片科研或应用的解决方案，分为产品和科技咨询两个方面：产品包括微流控芯片加工、检测仪器设备配置及微流控芯片配件配置；科技咨询为客户提供组建芯片实验室的整体方案、解决微流控芯片应用中的技术难题、微流控芯片项目研发服务等。

  按照现代公司制度规范运作企业是公司创办伊始就秉承的基本理念，目前，公司的团队结构、人事制度、财务制度、知识产权制度等都已经逐步形成和完善。公司的口号：高品质、高信誉、高效率。公司的宗旨：以发明创新为龙头，以科技成果转化为手段，以微流控芯片领域为主战场，走科研成果商品化，商品产业化，产业规模化和国际化的道路，以自主创新的核心技术为基础的竞争战略为企业长期发展战略，整合产业链的各项优势资源，打造以自主创新为企业特色的产业价值链，塑造民族品牌，迎接国际化的挑战。

产品简介：

的化学增幅型负像SU-8光刻胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶，克服了普通光刻胶采用 UV光刻导致的深宽比不足的问题，十分适合于制备高深宽比微结构。SU-8光刻胶在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形；它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性。SU-8在受到紫外辐射后发生交联，是一种化学扩大负性胶，可以形成台阶等结构复杂的图形；且SU-8光刻胶不导电，在电镀时可以直接作为缘体使用。由于具有较多优点，SU-8光刻胶正被逐渐应用于 MEMS、芯片封装和微加工等领域。目前，直接采用SU-8光刻胶来制备深宽比高的微结构与微零件已经成为微加工领域的一项新技术。

光刻前清洗工艺：

为了获得更好的光刻效果，在进行光刻胶旋涂之前，需要对基材进行清洗。常用的清洗方法是利用浓硫酸及双氧水的混合溶液浸泡，随后用去离子水清洗并用氮气吹干。除此之外还可以利用反应离子刻蚀或等离子表面清洗仪清洗。

光刻工艺：

将SU-8光刻胶组分旋涂在基材上，旋涂厚度几至几百微米。涂覆晶片经过前烘并冷却至室温。在烘干过程中，优先选择加热均匀且温度控制的加热板；不能使用鼓风干燥箱，防止因为光刻胶表面优先固化从而阻止内层光刻胶溶剂的挥发。冷却后，将负光掩模与涂覆晶片接触并在汞灯的紫外辐射剂量10-250mJ/㎝²条件下进行曝光。曝光结束后，选择合适的烘烤温度及时间。将晶片在显影液中浸渍显影，随后用氮气吹干。

以及可以配合SU-8胶使用的SU-8显影液、去胶液。