PL311 光刻胶剥离液

光刻胶剥离液（光刻胶去胶液）PL311用于去除正型光刻胶，以及用于负片的返工处理。适用于半导体晶圆表面、LCD/OLED加工的光刻胶和CMOS图像传感器等返修芯片的红胶，以及电子设备、电子仪器的清洗。

深圳华亿科技有限公司位于深圳市龙华新区，地处珠三角经济圈核心，专注于新型环保化工产品和表面处理技术领域，包含脱模、清洗、抛光、切削、冲压、防护等相关工艺。 深圳华亿科技有限公司致力于表面处理技术的研发和应用，开发绿色环保、安全的化工产品，经营范围：化工产品：陶瓷过滤板清洗剂、混凝土脱模剂、保模剂、建筑模板脱模剂、模板漆、水泥脱模剂、混凝土预制构件脱模剂、地铁管片脱模剂、顶管脱模剂、PC脱模剂、桥梁桥墩脱模剂、管桩电杆脱模剂、微乳化切削液、全合成切削液、半合成切削液、金属切削液、冲压油、等离子抛光盐、金属磨削液、钕铁硼切削液、铜线伸线油、铜线拉丝油、玻璃陶瓷切削液、沉降剂、珩磨液、手机中板脱模剂、铝镁合金脱模剂、（金银铜）金属保护剂、发黑剂、防锈剂、防锈油、金属清洗剂、超声波清洗剂、线路板清洗剂、晶圆清洗剂、除蜡水、中性脱脂清洗剂、防指纹油、不锈钢耐盐雾钝化剂、平面研磨抛光液 等，以及表面处理设备：超声波自动清洗线、全自动涂装线、污水处理系统、废气处理系统、等离子抛光机、五轴智能抛光机、纯水设备等，涵盖多数材质加工的前处理和后处理工艺。适用于：金属加工、塑胶加工、电子、建筑工程施工、LCD、ITO、光学玻璃加工等行业。 深圳华亿科技有限公司以科技创新，以诚信为本，努力打造中国环保化工品牌，为客户提供环保、安全的化工产品，为打造高品质工程项目，促进建筑产业升级助力！继续开拓、进取，诚信、务实。我司拥有完整、科学的质量管理体系，与广东、江浙等地区加工企业广泛合作，公司的诚信、实力和产品质量获得业界的认可。公司全体员工将继续团结协作，以“科学创新、节能降耗、预防污染、服务客户”为企业文化，共同开创美好未来！深圳华亿科技有限公司全体同仁，欢迎各界朋友莅临参观、指导和业务洽谈！

光刻胶剥离液 光刻胶去胶液 抗蚀剂剥离液 光刻胶清洗剂

产品概述：

光刻胶剥离液（光刻胶去胶液）PL311是针对半导体晶圆芯片制造过程而设计，光刻胶层需要在制造过程结束时，从衬底表面去除。本品采用极性非质子有机溶剂、还原剂、阻蚀剂等成分，科学复配而成，水溶性好，表面张力低，清洗能力强，可以迅速去除光刻胶残留、其它刻蚀残留物、粉尘颗粒物、油污、手印、氧化硅抛光液残留等脏污，不引入任何污染物，洁净度高，对各种衬底材料、镀膜层、金属配线无腐蚀，无毒无刺激性气味，环保安全，对人体与环境友好。

适用范围：

光刻胶剥离液（光刻胶去胶液）PL311用于去除正型光刻胶，以及用于负片的返工处理。适用于半导体晶圆表面、LCD/OLED加工的光刻胶和CMOS图像传感器等返修芯片的红胶，以及电子设备、电子仪器的清洗。

产品特点：

1.去胶速度快，去胶能力强，可迅速去除晶圆表面和衬底金属表面的光刻胶等残留物；

2. 光刻胶剥离液（光刻胶去胶液）去除金属离子污染物、粉尘颗粒物，无残留；

3.材料相容性好，对衬底材料及金属布线无腐蚀性；

4.无毒无刺激，不燃不爆，不含ODS（臭氧层破坏物质），符合欧盟RoHS标准。

产品参数：

外观（原液) ：无色透明液体

比重       ：1.06±0.01

PH值      ：10—11

气味       ：无

使用方法：

光刻胶剥离液（光刻胶去胶液）PL311根据不同要求原液或稀释使用，稀释比例不超过20倍；使用前请咨询我司技术人员！

温度：50-60℃    

时间：5-10分钟

注意：清洗设备建议选择高频超声波清洗，避免因频率过高震伤产品。

注意事项：

如不慎进入眼中应立即用清水冲洗，人工清洗时，请配戴防护手套；   

储存于阴凉干燥处，避免阳光直射

包装规格：

1加仑/桶

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