镍钒（NiV）合金靶材

镍钒（NiV）合金靶材是在制备镍钒合金靶材过程中，在镍熔体中加入钒，使制备出的合金更有利于磁控溅射。

北京金源新材科技有限公司（Beijing Jinyuan Advanced Materials Technology Co.,Ltd.）坐落于中关村科技园区，是一家专注服务于新材料行业的高新技术企业。这些技术将帮助中国新材料行业用户大幅提高溅射靶材利用率、提高镀膜材料的镀膜效果，研发和生产出高质量的产品。   金源新材科技公司作为中关村科技园区新材料领域具实力的公司之一，通过与科研院所的联合研发和广泛的合作，公司为各科研院所、企业、高校等提供专业优质的溅射靶材、镀膜材料、高纯材料、粉体材料、稀土材料以及蒸发源材料等产品。产品广泛应用于航空航天、太阳能光伏企业、光学镀膜、熔炼、电子信息、半导体集成电路、平板显示、记录介质、工件表面涂层等领域。

镍钒（NiV）合金靶材，在集成电路制作中一般用纯金做表面导电层，但金与硅晶园容易生成AuSi低熔点化合物，导致金与硅界面粘接不牢固，人们提出了在金和硅晶圆的表面增加一粘接层，常用纯镍做粘接层，但镍层和金导电层之间也会形成扩散，因此需要再有一阻挡层，来防止金导电层和镍粘接层之间的扩散。阻挡层需要采用熔点高的金属，还要承受较大的电流密度，高纯金属钒能满足该要求。所以在集成电路制作中会用到镍溅射靶材、钒溅射靶材、金溅射靶材等。镍钒溅射靶材是在制备镍钒合金靶材过程中，在镍熔体中加入钒，使制备出的合金更有利于磁控溅射，结合了镍溅射靶材和钒溅射靶材的优点，可一次完成溅射镍层（粘接层）和钒层（阻挡层）。镍钒合金无磁性，有利于磁控溅射，在电子及信息产业中，正在逐步替代纯镍溅射靶材。 镍钒（NiV）合金靶材
我们生产镍钒（NiV）合金靶材,它最大的好处是在物理气相沉积的过程中，能获得具有优异的导电率和颗粒最小化的薄膜。此外，我司还可生产各种镍合金靶材，如镍铝，镍钴，镍铜，镍钒，镍钨，镍铬硅等合金靶材，并可按照您对靶材成分，尺寸，晶粒度的不同要求来生产。
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