3英寸 高纯钨（W）靶材

我们生产高纯钨（W）靶材，它最重要的好处是在物理气相沉积的过程中，能获得具有优异的导电率和颗粒最小化的薄膜。

北京金源新材科技有限公司（Beijing Jinyuan Advanced Materials Technology Co.,Ltd.）坐落于中关村科技园区，是一家专注服务于新材料行业的高新技术企业。这些技术将帮助中国新材料行业用户大幅提高溅射靶材利用率、提高镀膜材料的镀膜效果，研发和生产出高质量的产品。   金源新材科技公司作为中关村科技园区新材料领域具实力的公司之一，通过与科研院所的联合研发和广泛的合作，公司为各科研院所、企业、高校等提供专业优质的溅射靶材、镀膜材料、高纯材料、粉体材料、稀土材料以及蒸发源材料等产品。产品广泛应用于航空航天、太阳能光伏企业、光学镀膜、熔炼、电子信息、半导体集成电路、平板显示、记录介质、工件表面涂层等领域。

高纯钨（W）靶材，钨的化学元素符号是W，原子序数是74，相对原子质量为183.85，原子半径为137皮米，密度为19.35克/每立方厘米，属于元素周期表中第六周期（第二长周期）的VIB族。钨在自然界主要呈六价阳离子，其离子半径为0.68×10-10m。由于W6+离子 半径小，电价高，极化能力强，易形成络阴离子，因此钨主要以络阴离子形式[WO4]2-，与溶液中的Fe2+、Mn2+、Ca2+等阳离子结合形成黑钨矿或白钨矿沉淀。经过冶炼后的钨是银白色有光泽的金属，熔点极高，硬度很大，蒸气压很低，蒸发速度也较小，化学性质也比较稳定。高纯钨（W）靶材。
我们生产高纯钨（W）靶材，它最重要的好处是在物理气相沉积的过程中，能获得具有优异的导电率和颗粒最小化的薄膜。
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