3英寸 铪（Hf）靶材

铪（Hf）靶材具有与金属铪相同的性能。它的熔点2233 °C，沸点4603°C，密度13.31g /cm3，是一种带光泽的银灰色的过渡金属。

北京金源新材科技有限公司（Beijing Jinyuan Advanced Materials Technology Co.,Ltd.）坐落于中关村科技园区，是一家专注服务于新材料行业的高新技术企业。这些技术将帮助中国新材料行业用户大幅提高溅射靶材利用率、提高镀膜材料的镀膜效果，研发和生产出高质量的产品。   金源新材科技公司作为中关村科技园区新材料领域具实力的公司之一，通过与科研院所的联合研发和广泛的合作，公司为各科研院所、企业、高校等提供专业优质的溅射靶材、镀膜材料、高纯材料、粉体材料、稀土材料以及蒸发源材料等产品。产品广泛应用于航空航天、太阳能光伏企业、光学镀膜、熔炼、电子信息、半导体集成电路、平板显示、记录介质、工件表面涂层等领域。

铪（Hf）靶材具有与金属铪相同的性能。它的熔点2233 °C，沸点4603°C，密度13.31g /cm3，是一种带光泽的银灰色的过渡金属。金属铪强度适中，抗腐蚀性好，中子吸收能力高，大量用于原子能工业；铪可以生成多种合金，还可作贱金属的表面包膜。 我公司可提供进口低锆高纯铪，可加工成靶材，颗粒等。

铪（Hf）靶材制备工艺流程

备料 - 电子束熔炼 - 化学分析 - 锻造 - 轧制 - 退火 - 金相检测 - 机加工 - 尺寸检测 - 清洗 - 终检 - 包装

铪（Hf）靶材
引入氧气分压，可以用电溅射或反应溅射铪溅射靶，制备氧化铪薄膜。所得薄膜可用于多种用途，包括用于光子学的光学涂层、薄膜电阻、耐腐蚀性、核产品、集成电路中的栅极绝缘体和传感器。

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