椭偏仪

椭偏仪为一种光学系膜厚测量装置，这个装置的特点是可以测量1nm一下的薄膜，也适合测量玻璃等透明基板上的薄膜。ME-210-T 活用了本公司特有的偏光Senor 技术，将不能变为可能，以往的技术是无法测量0.5mm厚的玻璃基板，在这项技术下，可进行薄膜的测量，举例来说显示器用的ITO膜或配向膜的评估，也可运

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高速Mapping椭偏仪（适用透明基板）ME-210-T

椭偏仪适用透明基板的高速Mapping椭偏仪 ···可测量透明基板上的光阻膜及配向膜分布

椭偏仪,膜厚测量仪,光学膜厚测量仪椭偏仪为一种光学系膜厚测量装置，膜厚测量仪这个装置的特点是可以测量1nm一下的薄膜，也适合测量玻璃等透明基板上的薄膜。

ME-210-T  活用了本公司特有的偏光Senor 技术，将不能变为可能，以往的技术是无法测量0.5mm厚的玻璃基板，在这项技术下，可进行薄膜的测量，举例来说显示器用的ITO膜或配向膜的评估，也可运用ME-210-T  轻松达成。

ME-210-T的膜厚分布资料，膜厚测量仪定会对的薄膜产品的生产有大的用途。

ME-210-T膜厚测量仪的特点

1，   的测量速度（每分约1000点：）可短时间内取得高密度的面分布数据。

2，   微小领域量测（20un左右）可简单锁定&测量任一微小区域。

3，   可测量透明基板

适用于解析玻璃基板上的薄膜

膜厚测量仪的测量实例

涂布膜边缘扩大测量

可阶段性扩大微小领域，然后获得详细的膜厚分布数据

GaAs Wafer 上酸化膜厚的分布测量

缩小膜厚显示范围，膜厚差距不大的样品，也可以简单评估、比较其分布状况

膜厚测量仪的设备参数

项目	规格
光源	半导体激光（636nm、class2）
zui小测量领域	广域模式：0.5mm×0.5mm
	高精细模式：5.5um×5.5um
入射角	70『deg』
测量再现性	膜厚：0.1nm 折射率：0.001     ※1
zui大测量速度	1000point/min（广域模式）
	5000point/min（高模式）
载物台	行程：XY200mm以上 zui大移动速度：约40mm/scc
尺寸/重量	约650×650×1740mm（W×D×H）/约200kg
电源	AC100V
备注	※1：此数值是以广域模式测量SiO2膜（膜厚约100mm）其中一点，重复测量100次后的标准偏差值

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