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价格:电议
所在地:广东 深圳市
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更新时间:2011-12-27
浏览次数:1343
公司地址:深圳市南山区科技园中区科苑路24栋东三楼
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刘曙东(先生)
利方达(香港)有限公司于2002年创建。公司目前集中了一批多年从事真空镀膜专业的技术人员和经验丰富的市场销售人员,现已经发展成为由利方达(香港)有限公司,深圳市利方达科技有限公司,利方达科技北京办事处组成 的,集真空产品研发,生产及贸易以及维修服务为一体的企业集团 。
| 用途:磁控溅射PVD镀膜,氮化钛(TiN)、氮碳化钛(TiCN)、氮化锆(ZrN)、氮化铬(CrN)、氮化铝钛(TiAIN)、碳化钛(TiC)等 | |
| 基材:不锈钢,锌合金,塑料 | |
| 应用:外壳,MP3外壳,数码相机外壳,各种标牌的装饰改性加硬镀膜 | |
| 颜色:白色,金色, 银色, 黑色 , 兰色等 | |
| 基本参数: |
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| 1、真空室尺寸:1210mm(直径)×1200mm(高); | |
| 2、抽气时间速:大气到5×10-3Pa≤20min (空载, 冷态,洁净); | |
| 3、zui高烘烤温度:300℃ | |
| 4、极限真空:优于1×10-3Pa; | |
| 5、采用侧面对开门方式,便于工件装卸; | |
| 6、3只观察窗口,左右门上各一个,室体正前方一个; | |
| 7、2台φ400mm口径分子泵、1台ZJP300型罗茨泵, 2台2X-70型机械泵抽气; | |
| 8、一套公、自转工转机构,采用下驱动方式的二维平面行星机构;自转轴20根; | |
| 9、所有驱动引入采用带水冷套磁流体密封; | |
| 10、四对磁控溅射靶平行安装且成圆周分布,靶材尺寸:910mm×120mm(长×宽); | |
| 11、4路进口质量流量计进气; | |
| 12、预溅射小车挡板,控制预溅射工艺; | |
| 13、三台30KW中频电源及一台30KW脉冲偏压电源; | |
| 14、控制系统采用触摸屏上位机(工控机)+下位机(PLC)的控制形式 | |
| 15、控制系统有手动和自动,全系统具有互保护, 泵阀互锁。 | |
免责声明:以上所展示的[ TSV-1200 磁控溅射镀膜机]信息由会员[深圳市利方达科技有限公司]自行提供,内容的真实性、准确性和合法性由发布会员负责。