BZD-300 多源蒸发镀膜系统

该系统为多源蒸发镀膜系统， 系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜。系统主要由镀膜室、金属蒸发源(2套独立，配电源)、旋转样品台、分子泵组、真空测量系统、膜厚仪、气路系统、电控系统等组成

安徽贝意克设备技术有限公司是一家专注于新材料、新能源、高端装备设备的研发生产与一体的高新技术企业，合肥市科技小巨人培育企业。公司拥有多名专家顾问，其中千人一位，青年千人2位，教授3位。公司拥有400平米的重点实验室，部分实验室对外开放。公司拥有31项，其中发明6项、实用新型23项、外观2项。涉及领域包括，石墨烯、碳纳米管、高温荧光粉、OLED有机小分子材料、PECVD系统等。公司产品有智能高低温CVD系统、PECVD系统、各种真空气氛管式炉、高低温箱式炉、等离子清洗设备、RF溅射设备、各种压力的手动自动压片机、各种功能尺寸的手套箱、球磨机、氧化锆齿科烧结炉等。

 一、系统功能及构成

  1. 该系统为多源蒸发镀膜系统， 系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜。系统主要由镀膜室、金属蒸发源(2套独立，配电源)、旋转样品台、分子泵组、真空测量系统、膜厚仪、气路系统、电控系统等组成。

  2. 镀膜极限真空度：≤10-5 Pa (经烘烤除气后);

  真空获得采用分子泵(1200L/S)和机械泵(8L/S)+CF200主阀组成，此配置具有抽速快，可获得高真空环境，提供薄膜的洁净度。

  真空泵组前配有冷凝过滤井，放置蒸发材料污染真空系统。

  系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7Pa.l/S;

  系统从大气开始抽气：溅射室30分钟可达到5x10-4 Pa;

  系统停泵关机1小时后真空度：≤5Pa

  3. 镀膜室中配有2组热蒸发源，、分布在一个圆周上(下底盖位置均匀分布)，各源可独立/顺次工作，配个圆形旋转挡板，挡板缺口移到哪个工位，哪个工位材料可以蒸发。

  4. 样品台布置在真空室上部，可放置最大6英寸样品1片，样品具有连续旋转功能，旋转0—30转/分连续可调。

  5. 真空测量采用进口INFICON 全量程规进行测量。

  6. 系统配有二路国产口MFC控制进气系统，流量分别为100SCCM、50SCCM。

  7. 系统配有1个INFICON膜厚仪。

 

  二、系统的主要组成及技术指标

  溅射室极限真空度：≤10-6Pa(经烘烤除气后);

  系统真空检漏漏率：≤5.0x10-8Pa.l/S;

  系统从大气开始抽气：溅射室35分钟可达到5x10-4 Pa;

  1、溅射真空室

  真空室为方形前开门结构，尺寸350mmx400mmx350mm(宽X高X深)全不锈钢结构。可内烘烤到100～150℃，选用不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行电化学抛光国内首家钝化处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封;手动前开门结构;蒸发源安装在下盖板，基片转台在顶部，左侧面设置有光纤旋转装置。

  2、镀膜源

  2套蒸发源;

  3、旋转转基片台

  3.1 基片尺寸和数量：6英寸样品一次放置1片。

  3.2、基片公转由调速电机驱动，0—30转/分连续可调，转动速度

  4、工作气路

  4.1、100SCCM、50SCCM质量流量控制器(国产)、DN6电动截止阀、管路、接头等：共2路

  5、抽气机组及阀门、管道

  5.1、分子泵;

  5.2、机械泵：;

  5.3、DN40电动截止阀：1台;

  5.4、机械泵与真空室之间的旁抽管路：1套;

  5.5、CC200气动闸板阀：1台;

  5.6、DN40旁抽角阀：1台

  5.7、配备一套低温冷阱及压缩机组件

  6、安装机台架组件

  优质方钢型材焊接成，快卸围板表面喷塑处理;机台表面用不锈钢蒙皮装饰;四只脚轮，可固定，可移动。

  7、真空测量

  溅射室采用进口INFICON 复合规进行测量。

  8、系统采用PLC+触摸屏半自动控制方式

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