xinxiRCA-02 RCA清洗机芯矽江浙沪集成电路厂家直销

清洗设备在主要清洗物质依制程不同而清除对象而有所差异，Wet Station主要清除物质为污染微粒、Organic与 MetalIon、NativeOxide等。而单晶圆设备则对污染微粒与金属有较佳的去除效果。然而，rca清洗机，随着半导体厂着重于缩短时间、降低成本、更好的制程表现、低污染与低耗能等诉求，目前各大设备厂也不断以单芯片清

芯矽科技”是由菏泽力芯电子科技有限公司联合国内外湿制程专家创建于苏州工业园区，为境内公司 性质。 我们拥有高洁净度无尘室、制造工厂及备品备件仓库。主要提供的产品及相关服务包括：高洁净度化学 品供应管理系统（CDS）、高阶湿制程清洗刻蚀设备、匀胶显影设备。同时，我们还提供废液回收系统、监控 系统工程、无尘室周边设备及机电工程。 我们的经营范围涵盖集成电路、太阳能、光电（TFT/LCD/LED/OLED）、封装测试等高科技电子厂房的 设备制造组装、工程设计、施工及管理、管路系统安装及耗材销售。对先进的电子制造技术和工艺有着专业 的理解和把握，将持续为客户提供具有高质量、低价格、操作简单、节能减耗的高品质产品作为公司经营的 目标。在工程方面我们以专业的设计、专业的施工方案以及高品质的施工技术，力争为客户提供优质的服 务。 公司秉持“合作、共赢、自主、创新”的发展理念，在充分合作的基础上，以技术创新、管理创新和服 务创新为驱动力，通过自主研发、自主管理建立自主知识产权、打造自主品牌，努力实现多方共赢，积 极推进传统制造向智能制造转型升级。 目前已形成以苏州为中心，工厂、办事处遍及全国的战略布局。

RCA清洗工艺;1水中超声清洗；灰尘、残余物去除
2、浓硫酸、浓硫酸+双氧水;表面污染(有机物、金属物、微粒）DHF去除氧化氢(TO疏水性）
3.碱洗(双氧水、氨水。水）：颗粒。有机物去除
BHF去除氧化层（TO 疏水性）
4.酸洗（双氧水.盐水.水）微粒、有机物去除
BHF去除氧化层(TO疏水性）
超纯水清洗去除：离子

清洗设备在主要清洗物质依制程不同而清除对象而有所差异，Wet Station主要清除物质为污染微粒、Organic与 metalIon、NativeOxide等。而单晶圆设备则对污染微粒与金属有较佳的去除效果。然而，rca清洗机，随着半导体厂着重于缩短时间、降低成本、更好的制程表现、低污染与低耗能等诉求，目前各大设备厂也不断以单芯片清洗设备为主要研发机种。




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