产品简介:
EM12-PV是采用量拓科技的测量技术，针对中端精度需求的光伏太阳能电池研发和质量控制领域推出的精致型多入射角激光椭偏仪。
EM12-PV用于测量绒面单晶硅或多晶硅太阳电池表面减反膜的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可测量光滑平面材料上的单层或多层纳米薄膜的膜层厚度，以及在632.8nm下折射率n和消光系数k。
EM12-PV融合多项量拓科技，采用一体化样品台技术，兼容测量单晶和多晶太阳电池样品。一键式多线程操作软件，使得仪器操作简单安全。
特点：
粗糙绒面纳米薄膜的测量
的光能量增强技术、低噪声的探测器件以及高信噪比的微弱信号处理方法，实现了对粗糙表面散射为主和低反射率为特征的绒面太阳电池表面纳米镀层的检测。
次纳米量级的高灵敏度和准确度
的采样方法、稳定的核心器件、高质量的制造工艺实现并保证了高准确度和稳定性，测量绒面减反膜的厚度精度优于0.2nm。
1.6秒的快速测量
水准的仪器设计，在保证和准确度的同时，可在1.6秒内快速完成一次测量，可满足快速多点检测和批量检测需求。
简单方便安全的仪器操作
一键式操作设计，用户只需一个按钮即可完成复杂的材料测量和分析过程，数据一键导出，丰富的模型库和材料库也同时方便了用户的操作需求。
应用：
EM12-PV适合于光伏领域中端精度要求的工艺研发和现场的质量控制。
EM12-PV可用于测量绒面单晶硅或多晶硅太阳电池表面上单层减反膜的厚度以及在632.8nm下的折射率n，典型纳米膜层包括SiNx，ITO，TiO2，SiO2，A12O3，HfO2等，应用领域包括晶体硅太阳电池、薄膜太阳电池等。
EM12-PV也可用于测量光滑平面基底上的单层或双层纳米薄膜，包括膜层的厚度，以及在632.8nm下的折射率n和消光系数k。也可用于测量块状材料（包括，液体、金属、半导体、介质等）在632.8nm下的折射率n和消光系数k。应用领域包括半导体、微电子、平板显示等。
技术指标：
项目
技术指标
仪器型号
莆田光谱椭偏仪,椭偏仪,与维修中的应用多种型号图片
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| 型号:JX200089EX3 自动椭圆偏振测厚仪 |
型号:JX200098EM12 精致型多入射角激光椭偏仪 |
型号:JX200094EM12-PV 精致型多入射角激光椭偏仪（光伏专用） |
莆田光谱椭偏仪,椭偏仪,与维修中的应用
热门搜索:
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莆田光谱椭偏仪,椭偏仪,与维修中的应用多种型号内容
型号:JX200089EX3 自动椭圆偏振测厚仪
EX3自动椭圆偏振
测厚仪是基于消光法（或称“零椭偏”）测量原理，针对纳米薄膜厚度测量领域推出的一款自动测量型
教学仪器。与EM22仪器相比，该仪器采用半导体
激光器作为
光源，稳定性好，体积更小。
EX3仪器适用于纳米薄膜的厚度测量，以及纳米薄膜的厚度和折射率同时测量。
EX3仪器还可用于同时测
量块状材料（如，金属、半导体、介质）的折射率n和消光系数k。
特点:
经典消光法椭偏测量原理
仪器采用消光法椭偏测量原理，易于理解和掌握椭偏测量基本原理和过程。
方便安全的样品水平放置方式
采用水平放置样品的方式，方便样品的取放。
紧凑的一体化结构
集成一体化设计，简洁的仪器外形通过USB接口与计算机相连，方便仪器使用。
高稳定性
光源
采用半导体
激光器作为探测光的
光源，稳定性高，噪声低。
丰富实用的样品测量功能
可测量纳米薄膜的膜厚和折射率、块状材料的复折射率等。
便捷的自动化操作
仪器软件可自动完成样品测量，并可进行方便的测量数据分析、仪器校准等操作。
安全的用户使用权限管理
软件中设置了用户使用权限（包括：管理员、等模式），便于仪器管理和使用。
可扩展的仪器功能
利用本仪器，可通过适当扩展，完成多项偏振测量实验，如马吕斯定律实验、旋光测量实、旋光等。
应用领域:
EX3适合于教学中单层纳米薄膜的薄膜厚度测量，也可用于测
量块状材料的折射率n和消光系数k。
EX3可测量的样品涉及微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳
电池、
光学薄膜、生命科学、化学、电化学、
磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等领域。
技术指标:
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项目
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技术指标
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仪器型号
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EX3
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测量方式
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自动测量
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样品放置方式
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水平放置
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光源
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半导体激光器，波长635nm
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膜厚测量重复性*
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0.5nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
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膜厚范围
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透明薄膜：1-4000nm
吸收薄膜则与材料性质相关
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折射率范围
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1.3 – 10
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探测光束直径
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Φ2-3mm
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入射角度
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30°-90°，精度0.05°
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偏振器方位角读数范围
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0-360°
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偏振器步进角
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0.014°
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样品方位调整
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Z轴高度调节：16mm
二维俯仰调节：±4°
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允许样品尺寸
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圆形样品直径Φ120mm，矩形样品可达120mm x 160mm
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配套软件
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* 用户权限设置
* 多种测量模式选择
* 多个测量项目选择
* 方便的数据分析、计算、输入输出
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外形尺寸
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（入射角度70°时）450*375*260mm
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仪器重量（净重）
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15Kg
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注：(1)测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次的标准差。
性能保证:
ISO9001质量体系下的仪器质量保证
专业的仪器使用培训
专业的椭偏测量原理课程
栏目页面:http://www.runlian365.com/product/4516.html
光谱椭偏仪
来源网址:http://www.runlian365.com/chanpin/xx-200089.html
EX3 自动椭圆偏振测厚仪
型号:JX200098EM12 精致型多入射角激光椭偏仪
EM12是采用量拓科技的测量技术，针对中端精度需求的研发和质量控制领域推出的精致型多入射角激光
椭偏仪。
EM12可在单入射角度或多入射角度下对样品进行准确测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测
量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的厚度测量。
EM12采用了量拓科技多项。
特点：
次纳米量级的高灵敏度
的采样方法、高稳定的核心器件、高质量的制造工艺实现并保证了能够测量薄纳米薄膜，膜厚精度可达到0.2nm。
1.6秒的快速测量
水准的仪器设计，在保证精度和准确度的同时，可在1.6秒内快速完成一次测量，可对纳米膜层生长过程进行测量。
简单方便的仪器操作
用户只需一个
按钮即可完成复杂的材料测量和分析过程，数据一键导出。丰富的模型库、材料库方便用户进行测量设置。
应用：
EM12适合于中端精度要求的科研和工业环境中的新品研发或质量控制。
EM12可用于测量单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；可用于同时测
量块状材料的折射率n和消光系数k；可用于实时测量快速变化的纳米薄膜的厚度、折射率n和消光系数k。
EM12可应用的纳米薄膜领域包括：微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳
电池、
光学薄膜、生命科学、化学、电化学、
磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。可应用的块状材料领域包括：固体（金属、半导体、介质等），或液体（纯净物或混合物）。
技术指标:
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项目
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技术指标
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仪器型号
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EM12
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激光波长
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632.8nm (He-Ne Laser)
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膜厚测量重复性（1）
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0.2nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)
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折射率测量重复性（1）
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2x10-3 (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)
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单次测量时间
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与测量设置相关，典型1.6s
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的膜层范围
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透明薄膜可达4000nm
吸收薄膜则与材料性质相关
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光学结构
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PSCA（Δ在0°或180°附近时也具有高的准确度）
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激光光束直径
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1-2mm
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入射角度
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40°-90°可手动调节，步进5°
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样品方位调整
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Z轴高度调节：±6.5mm
二维俯仰调节：±4°
样品对准：光学自准直和显微对准系统
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样品台尺寸
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平面样品直径可达Φ170mm
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外形尺寸
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887 x 332 x 552mm (入射角为90º时)
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仪器重量（净重）
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25Kg
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选配件
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水平XY轴调节平移台
真空吸附泵
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软件
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ETEM软件：
l 中英文界面可选；
l 多个预设项目供快捷操作使用；
l 单角度测量/多角度测量操作和数据拟合；
l 方便的数据显示、编辑和输出
l 丰富的模型和材料数据库支持
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注：(1)测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量25次所计算的标准差。
性能保证:
- 稳定性的He-Ne激光光源、的采样方法，保证了高稳定性和高准确度
- 的光学自准直系统，保证了快速、的样品方位对准
- 稳定的结构设计、可靠的样品方位对准，结合的采样技术，保证了快速、稳定测量
- 分立式的多入射角选择，可应用于复杂样品的折射率和厚度的测量
- 一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间
- 一键式软件设计以及丰富的物理模型库和材料数据库，方便用户使用
- 可选配件：
NFS-SiO2/Si二氧化硅纳米薄膜标片
NFS-Si3N4/Si氮化硅纳米薄膜标片
VP01真空吸附泵
VP02真空吸附泵
样品池
栏目页面:http://www.runlian365.com/product/4516.html
光谱椭偏仪
来源网址:http://www.runlian365.com/chanpin/xx-200098.html
EM12 精致型多入射角激光椭偏仪
型号:JX200094EM12-PV 精致型多入射角激光椭偏仪（光伏专用）
EM12-PV是采用量拓科技的测量技术，针对中端精度需求的光伏太阳能
电池研发和质量控制领域推出的精致型多入射角激光
椭偏仪。
EM12-PV用于测量绒面单晶硅或多晶硅太阳
电池表面减反膜的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可测量光滑平面材料上的单层或多层纳米薄膜的膜层厚度，以及在632.8nm下折射率n和消光系数k。
EM12-PV融合多项量拓科技，采用一体化样品台技术，兼容测量单晶和多晶太阳
电池样品。一键式多
线程操作软件，使得仪器操作简单安全。
特点：
粗糙绒面纳米薄膜的测量
的光能量增强技术、低噪声的探测器件以及高信噪比的微弱信号处理方法，实现了对粗糙表面散射为主和低反射率为特征的绒面太阳
电池表面纳米镀层的检测。
次纳米量级的高灵敏度和准确度
的采样方法、稳定的核心器件、高质量的制造工艺实现并保证了高准确度和稳定性，测量绒面减反膜的厚度精度优于0.2nm。
1.6秒的快速测量
水准的仪器设计，在保证和准确度的同时，可在1.6秒内快速完成一次测量，可满足快速多点检测和批量检测需求。
简单方便安全的仪器操作
一键式操作设计，用户只需一个
按钮即可完成复杂的材料测量和分析过程，数据一键导出，丰富的模型库和材料库也同时方便了用户的操作需求。
应用：
EM12-PV适合于光伏领域中端精度要求的工艺研发和现场的质量控制。
EM12-PV可用于测量绒面单晶硅或多晶硅太阳
电池表面上单层减反膜的厚度以及在632.8nm下的折射率n，典型纳米膜层包括SiNx，ITO，TiO2，SiO2，A12O3，HfO2等，应用领域包括晶体硅太阳
电池、薄膜太阳
电池等。
EM12-PV也可用于测量光滑平面基底上的单层或双层纳米薄膜，包括膜层的厚度，以及在632.8nm下的折射率n和消光系数k。也可用于测
量块状材料（包括，液体、金属、半导体、介质等）在632.8nm下的折射率n和消光系数k。应用领域包括半导体、微电子、平板显示等。
技术指标：
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项目
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技术指标
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仪器型号
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EM12-PV
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激光波长
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632.8nm (He-Ne Laser)
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膜厚测量重复性（1）
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0.2nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)
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0.2nm (对于绒面Si基底上80nm的Si3N4膜层)
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折射率精度（1）
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2x10-3 (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)
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2x10-3 (对于绒面Si基底上80nm的Si3N4膜层)
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单次测量时间
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与测量设置相关，典型1.6s
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光学结构
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PSCA（Δ在0°或180°附近时也具有高的准确度）
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激光光束直径
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1-2mm
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入射角度
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40°-90°可手动调节，步进5°
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样品方位调整
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一体化样品台轻松变换可测量单晶或多晶样品
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可测量156*156mm电池样品上每个点
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Z轴高度调节：±6.5mm
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二维俯仰调节：±4°
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样品对准：光学自准直显微和望远对准系统
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样品台尺寸
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平面样品直径可达Φ170mm
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兼容125*125mm和156*156mm的太阳能电池样品
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的膜层厚度范围
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粗糙表面样品：与绒面物理结构及材料性质相关
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光滑平面样品：透明薄膜可达4um，吸收薄膜与材料性质相关
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外形尺寸
|
887 x 332 x 552mm (入射角为90º时)
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仪器重量（净重）
|
25Kg
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选配件
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水平XY轴调节平移台
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|
真空吸附泵
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软件
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ETEM软件：
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-
中英文界面可选
-
太阳能电池样品预设项目供快捷操作使用
-
单角度测量/多角度测量操作和数据拟合
-
方便的数据显示、编辑和输出
-
丰富的模型和材料数据库支持
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注：(1)测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量25次所计算的标准差。
性能保证：
稳定的He-Ne激光
光源、的采样方法以及低噪声探测技术，保证了稳定性和准确度
一体化样品台技术，兼容单晶和多晶硅太阳
电池样品,轻松变换可实现准确测量
的
光学自准直显微和望远系统，保证了快速、的样品方位对准
样品调节技术，有效提高样品定位精度，并节省操作时间
光电增强技术和独特的噪声处理方法，显著降低现场噪声的影响
一体化集成式仪器整体设计，保证了系统稳定性，并节省空间
分立式的多入射角选择，可应用于复杂样品的折射率和厚度的测量
一键式软件设计以及丰富的物理模型库和材料数据库，方便用户使用
可选
配件：
NFS-SiO2/Si二氧化硅纳米薄膜标片
NFS-Si3N4/Si氮化硅纳米薄膜标片
VP01真空吸附
泵
VP02 真空吸附
泵 栏目页面:http://www.runlian365.com/product/4516.html
光谱椭偏仪
来源网址:http://www.runlian365.com/chanpin/xx-200094.html
EM12-PV 精致型多入射角激光椭偏仪（光伏专用）
【温馨提示】
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[河北德科机械科技有限公司]——是集科研、开发、制造、经营于一体，的工程试验仪器专业制造实体。公司主要经营砼混凝土仪器,水泥试验仪器,砂浆试验仪器,泥浆试验仪器,土工试验仪器,沥青试验仪器,公路集料仪器,防水材料仪器,公路岩石仪器,路面试验仪器,压力试验机养护室仪器及实验室耗材等上百种产品。
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