MicroLine 300 VIEW MicroLine 300

半自动CD测量系统 VIEW MicroLine 300半自动CD测量系统 VIEW MicroLine 300 VIEW MicroLine 300MicroLine 临界尺寸测量系统设计应用于半导体和MEMS晶圆以及光掩模CD量测。Microline 系列可自动测量线宽，迭置重合，和其他关键尺寸。

东莞市天测光学设备有限公司（TianCe Optical Equipment Co.,LTD.）是一家专业从事测量仪器销售和服务的高新技术企业。公司坐落在中国制造业名城广东省东莞市.公司本着“诚信、专业、务实、创新”的经营理念，坚持“以质量求生存、以信誉求发展”为企业宗旨,为客户提供高质低价的产品和服务,获得珠三角客户广泛好评。
公司专业从事美国QVI产品、OGP影像测量仪，VIEW影像测量仪（中国区总代）、法国Keron 关节臂三坐标测量仪、等著名品牌测量仪器的销售、安装、维修、校正、保养、升级等服务。公司拥有完善的样品测试中心和方案评估实验室,可为客户提供完善的测量解决方案,公司附设200平米的机器展示中心,可为企业，学校及研究机构提供三维尺寸测量，三维激光扫描，测量仪应用培训等服务。

半自动CD测量系统 VIEW MicroLine 300


半自动CD测量系统 VIEW MicroLine 300
半自动CD测量系统 VIEW MicroLine 300

MicroLine-300是一款桌上型半自动CD测量系统。

主要技术参数：

◆    测量范围(XYZ)：标准：200×200×25mm；可选：30030025
◆    视场内测量精度：10nm(100 镜头)；Z轴聚焦范围：25 mm
◆    视场内测量范围：0.5um~400um；
◆    视场内测量重复性(100 物镜)：  晶圆上<0.010um(1δ)；
掩模板上0.005um(1δ)；

◆    zui大承重：2kg

◆    标配镜头10，可选镜头：5X, 20, 50, 100

MicroLine 300 is a table type semi-automatic CD measurement system .

The main technical parameters :

◆ X,Y,Z Measuring Range (mm):   standard :20020025                      optional :  30030025

◆ The field measurement accuracy ：10nm （100 lens ）          Z Foucsing Range (mm)     :   25

◆ The field measurement range ：0.5um~400um；

◆ The field measurement repeatability （100 lens）：on wafer < 0 0.010m(1δ)；

on mask plate 0.005um(1δ)；

◆ Max Recommanded Load      :   2kg

◆  Lens ： standard ：10

optional ：5X，20，50，100。

桌上型半自动CD测量系统 VIEW MicroLine 300

MicroLine 系列 主要用于测量半导体、MEMS 晶圆、光刻掩模板等尺寸和涂覆物(多层套刻、圆、对接误差等)量测。
MicroLine 临界尺寸测量系统设计应用于半导体和MEMS晶圆以及光掩模CD量测。Microline 系列可自动测量线宽，迭置重合，和其他关键尺寸。

MicroLine 装备有高性能光学显微镜，运动平台，可测量0.5 微米到400 微米大小的产品，测量精度和重复性在10nm （1  σ ，100倍物镜）。

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