MXGH1200-100 全自动滑轨式双管真空管式炉

是专为化学气相沉积法制备石墨烯片而设计的，该炉搭配质量混气系统、高（低）真空系统组成CVD系统，可以通过滑动炉体来实现快速升降温，配置不同的真空系统来达到所需的真空度，同时通过四路质量混气系统控制

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 设备介绍：

是专为化学气相沉积法制备石墨烯片而设计的，该炉搭配质量混气系统、高（低）真空系统组成CVD系统，可以通过滑动炉体来实现快速升降温，配置不同的真空系统来达到所需的真空度，同时通过四路质量混气系统控制不同气体。

炉体采用双层壳体结构，壳体间配有风冷系统，能有效的降低炉壳表面温度。炉底以直线轨道为平台，通过智能轨道电机实现炉体自由滑动；反应区采用双石英管结构，外管直径100mm、内管直径80mm,内外两管通过双通道水冷法兰密封，形成两管之间及内管两个的腔室，金属薄膜围绕在内管表面做为基底，前驱反应气体通过两管间隙发生CVD反应。

设备用途：

     MXGH1200-100(80)全自动滑轨式双管真空管式炉是生长石墨烯研制的专用炉，也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验。

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