RISUN 氧化硅窗口

相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中，如基片薄膜含氮，则会与样本造成混淆。许多研究纳米微粒，特别是含氮纳米微粒的人员发现此种薄膜窗格在他们实验中不可缺少。• SEM应用中，薄膜背景不

 

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RISUN推出二氧化硅薄膜窗系列产品。与氮化硅相比，氧化硅更易遭受化学侵蚀，且坚固性更差。但在X-射线显微镜中，由于没有N原子存在而倍受青睐。

氧化硅与氮化硅薄膜窗比较：

相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中，如基片薄膜含氮，则会与样本造成混淆。

RISUN氧化硅薄膜窗特点

许多研究纳米微粒，特别是含氮纳米微粒的人员发现此种薄膜窗格在他们实验中不可缺少。

·         SEM应用中，薄膜背景不呈现任何结构和特点。

·         X射线显微镜中，装载多个分析样的方法。

·         无氮

  

RISUN氧化硅薄膜窗规格

单窗口系列

薄膜厚度	窗口尺寸	框架尺寸	型号
50-200nm	1.5X1.5mm	5.05.0mm	RISUN
50-200nm	2.5X2.5mm	7.5X7.5mm
50-200nm	3.03.0mm	1010mm
50-200nm	5.05.0mm	1010mm

硅片厚度：200um、381um、525um；

 

多窗口系列

薄膜厚度	窗口尺寸	框架尺寸	型号
50nm	2x2阵列，1.5X1.5mm	5.05.0mm	RISUN
50nm	3x3阵列，1.5X1.5mm	7.5X7.5mm
100nm	4x4阵列，1.5X1.5mm	1010mm

硅片厚度：200um、381um、525um；

 

定制系列

可根据用户需求定制不同膜厚的氧化硅窗口。

本产品为一次性产品，不建议用户重复使用；本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。
 

应用简介

实际上，RISUN氧化硅薄膜应用范围非常广，但所有应用都有无氮要求（因样本中有氮存在）：

1. 惰性基片可用于高温环境下，通过TEM、SEM或AFM（某些情况下）对反应进行动态观察。

2. 作为耐用（如“强力”）基片，先在TEM下，然后在SEM下对同一区域进行“匹配”。

3. 作为耐用匹配基片，对AFM和TEM图像进行比较。

4. 聚焦离子束（FIB）样本的装载。

5．用作Ti、V、Mo等滤光器基质；用于X-射线光学设备中，如分光器。


更多规格请联系上海昭沅仪器设备有限公司

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