吉致电子JEEZ抛光液 吉致电子JEEZ氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液

产品特点：纳米级SiO2磨料，粒径均一稳定，去除速率稳定，金属离子含量低，通过CMP工艺可有效去除表面氧化层，达到理想平坦度。吉致电子Oxide Slurry与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点。

无锡吉致电子科技有限公司主要研发生产产品为：抛光液、抛光垫等CMP化学机械研磨抛光材料，已有20余年的研发经验。 产品广泛应用于金属、光电、集成电路半导体、陶瓷、硬盘面板显示器等材质的表面深度处理，目前已发展为集研发、生产、销售于一体的现代工业科技企业。现已同多家500强企业建立合作伙伴关系，现员工已经达上百人，公司占地面积30.5亩，厂房面积约24000平方米。 产品质量管理执行ISO质量管理体系标准要求，严格管控每一环节。吉致公司采用技术，提供超高质量的产品，有效提高客户所需要的高选择比、高移除率、高平坦度、低缺陷要求。

无锡吉致电子25年研发生产——氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液/氧化物CMP研磨液/氧化物化学机械抛光液/半导体CMP抛光液/氧化层lapping研磨抛光液/氧化层slurry/氧化层抛光液抛光浆料/氧化层集成电路抛光液/氧化层CMP化学机械抛光液slurry/氧化层抛光液slurry 

磨料类型：半导体cmp抛光液slurry

磨料粒径：纳米级SiO2

产品特点：纳米级SiO₂磨料，粒径均一稳定，去除速率稳定，金属离子含量低，通过CMP工艺可有效去除表面氧化层，达到理想平坦度。

吉致电子Oxide Slurry与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点。

吉致电子氧化层抛光液/OxideSlurry抛光液储存方法：

通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射及冻结，零度以下因产生不可再分散结块而失效。

吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：

吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。

本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。

吉致电子CMP抛光耗材适用范围

吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠抛光解决方案！

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