MSP-4S 磁控溅射镀膜平台 库号：M396922

磁控溅射镀膜平台 库号：M396922

东方化玻（北京）科技有限公司成立于 2014 年，是实验设备、平台综合解决方案提供商。公司为国内企事业单位 提供高品质仪器仪表，实验设备以及整体解决方案。 公司与国内外多家世界生产商已建立长期合作关系。公司经营产品广泛，灵活满足不同事业单位和企业客户的差异化需求 以及快速创新的追求，产品故障率低，维护成本小，性能优异，售后服务完善。公司产品在行业内均拥有持续的应用历史并 经过市场实际应用检验。 坚持以持续技术创新为客户不断创造价值为经营理念，公司在产品研发方面投入比例逐年递增，目前自主研发并投入市场 的产品已达十余种，长期以来，公司一直按照标准，搭建实验室平台，构建高品质、高标准、持续创新的发展体系。 坚持稳步发展的管理理念，不断刷新自己在业内的记录。

磁控溅射镀膜平台 库号：M396922
磁控溅射镀膜平台 库号：M396922
磁控溅射镀膜平台 库号：M396922
磁控溅射镀膜平台以您的镀膜工艺出发，理论计算和设计经验结合，合理的配置，合理的布局。全自动一键式操作。满足科研院所、教学机构或企业多品种、小批量产品研制的需求，高真空全无油系统。适用行业：半导体晶圆、太阳能薄膜、SEM扫描电镜分析等
◆ 适用膜料金属类：金、银、铂金、铝、铜、钛、铬、钯、铑、铂、镍等各类金属或合金
◆ 介质类：二氧化硅、三氧化二铝、等
◆ 基底（衬底）尺寸： φ100（4英寸）或以下尺寸兼容

主要技术指标：

◆ 内腔尺寸（mm）：φ400mm*H500mm；
◆ 真空：≤9×10-5 Pa（24 小时内）；
◆ 恢复真空：常温状态下，真空室排气由大气至压强5×10-3Pa，排气时间≤25min；
◆ 基片烘烤，高温度500℃，控温精度≤±1℃；
◆ 设备漏率：≤1.0×10-9Pa*m3/s;
◆磁控溅射阴极：1~4个，靶面2英寸，可调角度，带电动挡板；
◆靶基距：80~110mm可调；
◆充气系统：质量流量控制器2套；
◆膜厚监控仪（选配）：INFICON/SQC-310石英晶体膜厚仪一套；
◆基片偏压系统（选配）：可对基片施加大1000V负偏压；
◆ 膜厚片内均匀性：≤±2%（电子束蒸发源制备Al2O3、SiO2两种单层薄膜，延半径方向均分十点测试）；
◆ 膜厚片间均匀性： ≤±2%（批次内5片，每片取平均值）；
◆ 膜厚批间重复性：≤±2% （连续3批，每批次取平均值） 。

控制程序：

◆ 一体化工控屏控制；
◆ 全自动一键式操作程序，保证镀膜重复性；
◆ 采用excel文件编辑工艺参数，软件直接调用运行即可完成整个镀膜工艺流程，无需额外操作；
◆ 软件自动生成详细的工艺过程运行记录和镀膜信息记录；
◆ 记录文件可回溯，历史数据曲线可查看，时间期限为1年内；
◆ 膜层状态界面可查看厚度、时间、速率、功率等镀膜信息；
◆ 关键部件根据实际使用情况，有维护时间显示，即节约成本，又便于维护；
◆ 完备的互锁功能，防止误操作；
◆ 程序设有三级权限，便于管理及维护。

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