P40系列 粉末颗粒包裹反应腔 原子层沉积（ALD）系统

Exploiter原子层沉积（ALD）系统-P40系列 粉末颗粒包裹反应腔是原速科技开发的新一代智能化ALD研发系统，广泛适用于纳米材料、微机电系统、催化剂、生物膜材料及光电材料等领域。

原速科技（Superald,LLC）是一家专注于开发新一代原子层沉积技术的高科技企业，为半导体、柔性显示、光学镀膜、太阳能电池及锂电池等领域的薄膜研发和生产提供优质的技术服务和一体化解决方案，致力打造全球领先的薄膜材料制备平台。

1、产品特色

（1）传输管路的优化设计，有效地避免管路堵塞及交叉污染问题

（2）工业化级别标准集成：PLC+工控机+触摸屏

（3）软件操作界面友好，可真正实现“一键沉积”

（4）完善的安全互锁方案

（5）实时监测镀膜工艺

2、可制备的材料种类

（1）氧化物：Al₂O₃、TiO₂、SiO₂、HfO₂、Ta₂O₅、ZrO₂、ZnO、SnO₂、La₂O₃、Lu₂O₃等

（2）金属材料及合金：Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Au、Ru、Pt、Ag、Au等

（3）二元/多元材料：AlN、HfON、LaAlO₃、MnN、WN等

（4）纳米层压材料：(Al₂O₃/ZrO₂)_n等

3、技术指标

（1）本底真空：＜5.0×10^-3torr，高性能机械泵（可定制其它款型）

（2）样品腔室：φ200mm；φ200mm+粉末颗粒包裹腔，（可定制其它款型）

（3）前驱体源：2、4或6路

（4）氧化/还原反应物：3路

（5）沉积温度：室温-500℃（可定制其他温度）

（6）前驱体管道温度：室温-120℃（可定制其他温度）

（7）源瓶加热温度：室温-120℃（可定制其他温度）

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