提交询价信息 |
发布紧急求购 |
价格:电议
所在地:上海
型号:GMD2000/4
更新时间:2020-05-22
浏览次数:1006
公司地址:上海市嘉定区朱戴路900号
刘经理(先生) 销售经理
公司主要研发、制造、销售流体领域的高尖端乳化机、胶体磨、均质机、分散机、研磨分散机、乳化泵、剪切泵、粉液混合机、成套多功能真空乳化机等设备,为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米级别。公司始终拥有一批在食品、化工、医药、新能源等领域有丰富经验的高尖端人才,能够专业为客户配备例如食品生产线、机械剥离法石墨烯生产线、氧化还原法石墨烯生产线、高纯度碳纳米管生产线、复合浆料生产线等。
公司特别注重设备的售后服务。依托一支技术扎实、服务贴切的售后团队,我们将致力于为客户提供整套的售后服务,在短的时间内为客户解决与合作相关的一系列问题。
“业精于专”是思峻公司的宗旨,专注人才、专注创新、专注品质、专注服务是公司一贯的追求和对您的承诺,我们坚信专注打造精品,专注将助力思峻在分散、乳化、均质的事业领域中勇攀高峰!
一、产品名称:高纯氧化铝粉研磨分散机,氧化铝粉高速分散机,高纯氧化铝浆料分散机,金属氧化物研磨分散机,化工研磨分散机
二、高纯氧化铝粉的性质及应用
氧化铝是白色晶状粉末、具有多孔性、高分散性和缘性等特点。高纯氧化铝氧粉,又称三氧化二铝,分子量102,是一种白色无定形粉状物,俗称矾土。
高纯氧化铝的应用:
一般3N高纯氧化铝主要应用于陶瓷,4N主要应用于荧光粉,5N应用于蓝宝石晶体、锂电池隔膜、陶瓷等。
高端:应用于锂电池隔膜及陶瓷涂层、对纯度、粒径、形貌等有严格要求,需要使用4N5N以上及纳米尺度的超细高纯氧化铝。
中端:应用于LED上游产业链,蓝宝石衬底,对纯度、杂质、产品稳定性的要求较为严格,需要使用4N5N以上及纳米尺度的超细高纯氧化铝。
低端:集成电路基板、消费电子,紫外固化涂料等方面的应用,需要使用4N级别左右的高纯超细氧化铝,整体要求相对较低。
三、高纯氧化铝粉的应用工艺
主要是将高纯氧化铝粉均匀的分散到须改性的基质当中,然而传统的分散设备无法满足分散效果的要求,传统分散设备转速较低,一般为3000rpm。而采用SGN管线式研磨分散机,转速高达14000rpm,另外独特的结构设计,将胶体磨和分散机一体化,先研磨后分散,分散粒径更小,粒径分布更均匀。
四、SGN化工研磨分散机的
1、上海SGN研磨式分散机可以很好的解决这一问题,“胶体磨+分散机”的独特结构,一级研磨模块可以将团聚体研磨打开,第二级分散模块再瞬间对物料进行充分的分散,一步到位,效果好,效率高。
2、传统分散设备转速一般不足3000rpm,难以分散。而SGN研磨分散机转速高达14000rpm,剪切速率高,可以充分的将石墨烯分散到涂料当中。
3、SGN研磨分散机采用管线式分体式结构,物料从进口进入设备工作腔中,进行处理,然后再从出口打出,物料得的剪切细化分散,产品更均匀稳定。另外可以实现在线式生产,满足大工业化生要求。
五、GMD2000系列高纯氧化铝粉研磨分散机选型表
型号 |
流量 L/H |
转速 rpm |
线速度 m/s |
功率 kw |
入/出口连接 DN |
GMD2000/4 |
300 |
9000 |
23 |
2.2 |
DN25/DN15 |
GMD2000/5 |
1000 |
6000 |
23 |
7.5 |
DN40/DN32 |
GMD2000/10 |
2000 |
4200 |
23 |
22 |
DN80/DN65 |
GMD2000/20 |
5000 |
2850 |
23 |
37 |
DN80/DN65 |
GMD2000/30 |
8000 |
1420 |
23 |
55 |
DN150/DN125 |
高纯氧化铝粉研磨分散机信息来源: