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价格:电议
所在地:北京
型号:EDV2000
手机:15010245973
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更新时间:2023-10-20
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公司地址:北京市海淀区
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| 本机是用于半导体、集成电路及激光息商标制过程中,在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻(感光)胶的专用设备。本机的作原理是利用速旋转时产生的离心力,将滴于基片上多余的光刻(感光)胶液甩去,在光刻(感光)胶表面张力和离心力的共同作用下,展成厚度均匀的胶膜。本机具有匀胶效率、使用方便等优点,匀胶速度和匀胶时间分别可调,电器电路具有较的稳定性,结构合理,旋转平稳,转速、时间采用数字显示,直观性强。本机可与光刻机配套使用。 |
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主要术参数:
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| 本机是用于半导体、集成电路及激光息商标制过程中,在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻(感光)胶的专用设备。本机的作原理是利用速旋转时产生的离心力,将滴于基片上多余的光刻(感光)胶液甩去,在光刻(感光)胶表面张力和离心力的共同作用下,展成厚度均匀的胶膜。本机具有匀胶效率、使用方便等优点,匀胶速度和匀胶时间分别可调,电器电路具有较的稳定性,结构合理,旋转平稳,转速、时间采用数字显示,直观性强。本机可与光刻机配套使用。 |
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主要术参数:
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标称频率:25KHZ
标称率:05-3200瓦率可调
作方式:数字化控制
电路采用德术,波作模式,频率自动跟踪,自动扫描,无须手动调节,数化设置,时控, (内含有自动保护)
主要应用:
1、药物提取,细胞,细菌,病毒组织破碎。如细胞内含物的萃取。
2、物质颗粒的分散、匀质,及乳化。如纳米材料的分散。
3、加速溶解,加速化学反应。如用于化学合成
探头长度标准为:400毫米-600毫米
zui大处理容量:50-100升
整套超声波设备总重约20公斤
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