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PG-2C金相试样抛光机是对PG-2金相试样抛光机的不完善处进行针对性的设计改进,该机除保持原PG-2的抛盘直径与传动功率均大于
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PG-2D金相试样抛光机是在PG-2C金相试样抛光机的基础上作进一步的设计改进,由原立式结构设计成柜式结构,二个抛光盘的转速也由
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在金相试样制备过程中,预磨是抛光前必不可少的前道工程,先将试样预磨光后,可提高试样制备的功效,为适应在多种材料预磨的需要